Quy trình chế tạo mặt nạ kim loại sử dụng máy khắc laze sợi quang
Cục Sở hữu trí tuệ vừa cấp Bằng độc quyền giải pháp hữu ích cho “Quy trình chế tạo mặt nạ kim loại sử dụng máy khắc laze sợi quang, ứng dụng trong kỹ thuật phún xạ để chế tạo các chi tiết có kích thước cỡ mili-mét” (Quyết định 1023w/QĐ-SHTT ngày 15/02/2023). Bằng độc quyền giải pháp hữu ích này được cấp cho các nhà khoa học thuộc Trường Đại học Công nghệ, Đại học Quốc gia Hà Nội.
Quy trình được cấp Bằng độc quyền giải pháp hữu ích đề cập đến việc chế tạo các mặt nạ trực tiếp bằng kim loại đơn giản, có độ chính xác cao, có thể chủ động được trong điều kiện thực tế ở nước ta và chi phí trong quá trình chế tạo rất thấp so với các phương pháp truyền thống hiện nay. Giải pháp hữu ích cũng đề xuất quy trình đơn giản để sử dụng các mặt nạ trực tiếp này vào kỹ thuật phún xạ để chế tạo các chi tiết có kích thước mili-mét. Chất lượng của mặt nạ kim loại chế tạo bằng quy trình trên được kiểm chứng bằng thực nghiệm với việc ứng dụng trong nhiều thí nghiệm thực tế cần tới kỹ thuật phún xạ.
Trong bối cảnh cơn sốt chip toàn cầu dẫn tới cuộc đua làm chủ công nghệ chế tạo chip bán dẫn của nhiều quốc gia, giải pháp hữu ích này có ý nghĩa và cơ hội ứng dụng thực tế vào sản xuất rất cao. Mà phún xạ là một trong những quá trình không thể thiếu trong chế tạo chip bán dẫn. Nhờ việc thực hiện chế tạo mặt nạ kim loại bằng quy trình công nghệ theo giải pháp hữu ích mà việc chế tạo các chi tiết bằng kỹ thuật phún xạ có thể được thực hiện trong điều kiện kỹ thuật cơ bản, thời gian chế tạo được rút ngắn đi và chi phí sản xuất thấp. Việc thực hiện giải pháp cũng đơn giản dựa chủ yếu vào các máy khắc laze sợi quang hiện đang được sử dụng rộng rãi. Nhờ đó mà các nhà nghiên cứu và sản xuất sử dụng tới kỹ thuật phún xạ có thể thực hiện dễ dàng.
Ngoài ra, các mặt nạ quang dùng trong kỹ thuật phún xạ có chi phí lớn, cùng với đó việc thực hiện các quy trình quang khắc tiêu chuẩn đòi hỏi máy móc, trang thiết bị phức tạp và đắt tiền. Chưa kể sai sót trong quá trình thiết kế mặt nạ có thể làm hỏng quá trình phún xạ và phải làm lại từ đầu, nên kỹ thuật phún xạ sử dụng quy trình quang khắc thường tốn kém, mất thời gian và tiềm ẩn rủi ro. Sử dụng phương án chế tạo như giải pháp hữu ích không những chế tạo được một số các chi tiết có kích thước cỡ mili-mét mà còn sử dụng được như một phương án chế tạo mẫu thử trước khi đặt hàng các mặt nạ quang chuyên dụng cho quy trình quang khắc.
Thông tin chi tiết xin liên hệ: Trường Đại học Công nghệ, Đại học Quốc gia Hà Nội - Nhà E3, 114 Xuân Thủy, Cầu Giấy, Hà Nội; Tel: 024.37547461; Email: uet@vnu.edu.vn.
https://vjst.vn/
